Composition de résine photosensible négative et film de revêtement

La presente invention se rapporte a une composition photosensible qui presente une excellente aptitude a repousser l'encre et peut produire une barriere qui peut maintenir une aptitude a repousser l'encre lorsqu'elle est eclairee avec une lumiere ultraviolette ou avec l'ozone, la composition de resine photosensible negative presentant une excellente stabilite de stockage. La presente invention se rapporte egalement a un film de revetement homogene obtenu a l'aide de la composition de resine photosensible negative. La composition de resine photosensible contient un agent repoussant l'encre (A) qui comprend un compose fluorosiloxane, une resine alcali-soluble (B) qui comprend un groupe acide et une double liaison ethylenique dans une seule molecule, et un initiateur de photopolymerisation (C), la composition de resine photosensible negative etant caracterisee en ce que la composition photosensible presente un indice d'acide compris entre 6 et 30 mg KOH/g.