INVESTIGAÇÃO DOS PARÂMETROS FOTOELETROCATALÍTICOS DO m-BiVO4 NA OXIDAÇÃO DE GLICOSE

Este trabalho visa avaliar o comportamento do fotoanodo FTO/m-BiVO4 em diferentes eletrolitos, pH, ânions e cations, a fim de investigar a influencia desses parâmetros na sua atividade fotoeletroquimica. O semicondutor m-BiVO4 foi desenvolvido pela sintese de combustao em solucao (SCS) e depositado atraves da tecnica de dip-coating em substrato de vidro condutor revestido com oxido de estanho dopado com fluor (FTO). A caracterizacao morfologica e estrutural do filme foi realizada por medidas de DRX, UV-Vis e MEV. A avaliacao do comportamento fotossensivel do filme foi feita por voltametria linear e cronoamperometria na presenca de luz visivel pulsada. Apos otimizacao dos parâmetros fotoeletroquimicos, foi realizado o estudo da fotoeletrocatalise na degradacao de glicose. Assim, foi possivel avaliar a eficiencia do filme nos processos fotoeletrocataliticos, apresentando-se como um potencial material para tais aplicacoes.