Schichtaufbau umfassend eine photopolymer- und eine substratschicht

Die Erfindung betrifft einen Schichtaufbau umfassend eine Substratschicht und eine zumindest abschnittsweise mit der Substratschicht verbundene Photopolymerschicht, wobei die Substratschicht eine durchschnittliche Retardation von ≤ 60 nm aufweist.