Dispositif destine a alimenter un reacteur de depot chimique en phase vapeur en melanges gazeux

La presente invention concerne un dispositif comprenant une branche d'alimentation (Z1) destinee a un melange gazeux compose d'une substance vaporisee (M1) et d'un gaz vecteur (T) et alimentant un reacteur de depot chimique en phase vapeur (CVD) (R). La branche d'alimentation (Z1) comprend une conduite d'alimentation destinee a la substance liquide (M1), une conduite d'alimentation destinee au gaz vecteur (T) et une unite de preparation dans laquelle debouchent les conduites et destinee a l'alimentation en substance liquide (M1) au moyen d'une soupape d'injection (EV1) a l'etat gazeux, et au melange de la substance (M1) avec le gaz vecteur (T). les conduites presentent respectivement une unite de regulation de flux (DS11, DS12).