Compositions pour la formation de motifs à haute résolution à base de solutions organométalliques

Cette invention concerne des solutions organometalliques qui sous forme de revetements minces se sont averees former des motifs a haute resolution par exposition a des rayons La formation de motifs peut impliquer l'exposition de la surface revetue portant un motif selectionne a des rayons et la revelation du motif a l'aide d'un agent de revelation pour former l'image revelee. Les revetements susceptibles de porter des motifs peuvent etre sensibles a la formation de motifs a tons positifs ou a la formation de motifs a tons negatifs suivant qu'un agent de revelation organique ou qu'un agent de revelation acide ou basique aqueux est utilise. Les revetements sensibles aux rayonnements peuvent comprendre un reseau metallique oxo/hydroxo a ligands organiques. Une solution precurseur peut comprendre un liquide organique et des cations metalliques oxo-hydroxo polynucleaires a ligands organiques comportant des liaisons metal-carbone et/ou des liaisons metal-carboxylate.