Système de couches d'un substrat transparent et procédé de production d'un système de couches

L'invention concerne un systeme de couches d'un substrat transparent (100) qui reflechit le rayonnement infrarouge. Ledit systeme comprend dans cet ordre : - une premiere couche dielectrique (D1) disposee sur le substrat transparent (100), - une seconde couche dielectrique (D2) disposee sur la premiere couche dielectrique (D1), - un premier systeme de couches metalliques (MS1) comprenant dans cet ordre : - une premiere couche metallique (M1), de preference constituee par de l'Ag ou comprenant de l'Ag, - une premiere couche de blocage (B1), - un systeme de couche de revetement dielectrique formant barriere (BDS). Selon l'invention, la premiere couche dielectrique (D1) est constituee de SiO 2 ou comprend du SiO 2 et la seconde couche dielectrique (D2) est constituee de TiO 2 ou de Al 2 O 3 ou comprend du TiO 2 ou de l'Al 2 O 3 , ou la premiere couche dielectrique (D1) est constitue d'Al2O3 ou comprend de l'Al2O3 et la seconde couche dielectrique (D2) est constituee de TiO 2 ou comprend du TiO 2 . L'invention concerne egalement un procede de production d'un systeme de couches, reflechissant le rayonnement infrarouge, sur un substrat transparent (100), dans lequel au moins une des couches individuelles deposees est deposee par pulverisation d'une cible ceramique ou par pulverisation reactive.