Verfahren zur Herstellung von röntgenoptischen Gittern, röntgenoptisches Gitter und Röntgen-System

Verfahren zur Herstellung von rontgenoptischen Gittern fur die Rontgen-Dunkelfeldbildgebung und fur die Rontgen-Phasenkontrastbildgebung, wobei: 1.1. eine rontgenempfindliche Schicht mit einer elektrisch leitenden Deckschicht auf eine Grundplatte aufgebracht wird, 1.2. durch ein lithographisches Verfahren eine Gitterstruktur in die rontgenempfindliche Schicht ubertragen wird, wobei belichtete und unbelichtete Bereiche entstehen, 1.3. die belichteten Bereiche der rontgenempfindlichen Schicht herausgelost werden, so dass eine Gitterstruktur zuruckbleibt, 1.4. durch Galvanisierung ein Metall in die Gitterzwischenraume eingebracht wird, 1.5. nach Ablosen des rontgenempfindlichen Materials und der Grundplatte ein Negativabdruck eines Gitters aus Metall bestehen bleibt, 1.6. mit diesem Negativabdruck ein Gitter aus einem ersten Material hergestellt wird, wobei 1.7. dieses Gitter eine Vielzahl von periodisch angeordneten Gitterstegen und Gitterlucken aufweist und 1.8. die Gitterlucken durch Galvanisierung mit einem zweiten Material gefullt werden, dadurch gekennzeichnet, dass 1.9. die Galvanisierung so lange fortgefuhrt wird, bis oberhalb der Gitterstege (4) eine...