Ellipsométrie à longueur d'onde unique présentant une fonction améliorée de taille de point

L'invention concerne des procedes et des systemes pour mettre en oeuvre des mesures d'ellipsometrie a longueur d'onde unique (SWE) qui presentent une taille reduite de point de mesure. Dans un mode de realisation, un diaphragme de pupille est positionne au niveau ou a proximite d'un plan de pupille, dans le trajet optique de collecte, pour reduire la sensibilite a des effets de diffraction sur le bord cible. Dans un autre aspect, un diaphragme de champ est positionne au niveau ou a proximite d'un plan d'image conjugue au plan de plaquette, dans le trajet optique de collecte, pour reduire la sensibilite a des interactions indesirables optique-structure. Dans un autre aspect, un polariseur lineaire agissant sur le faisceau d'entree du systeme SWE comprend un element polariseur mince a base de nanoparticules. L'element polariseur a base de nanoparticules ameliore la qualite du faisceau d'eclairage et reduit l'astigmatisme sur le plan de la plaquette. Les diaphragmes de pupille et de champ filtrent les rayons lumineux indesirables avant que ceux-ci n'atteignent le detecteur. Par consequent, l'invention permet de reduire la taille du point de mesure et d'ameliorer considerablement les performances d'appariement entre outils pour de petites cibles de mesure.